| 摘要 |
La présente invention concerne une installation pour l'étude de la surface d'échantillons placés dans le vide ou dans une atmosphère contrôlée, du type comportant une enceinte principale dans laquelle est placée une platine support pour au moins un dispositif, dénommé SXM, destiné à la microscopie, à la spectroscopie ou à la gravure de la surface d'échantillons, suivant un procédé mettant en oeuvre un balayage de ladite surface par une pointe conductrice de l'électricité ou de la lumière, ladite installation étant caractérisée en ce que la platine support peut être débrayée de l'enceinte principale et tournée sur elle-même autour d'un axe central pour permettre l'utilisation d'un ensemble de dispositifs SXM aménagés à la périphérie de ladite platine. Elle s'applique notamment à la microscopie et/ou la spectroscopie à effet tunnel électronique, notamment dans l'ultravide, à la microscopie et/ou la spectroscopie à effet tunnel optique, ou encore à la gravure de structures nanométriques par des procédés microlithographiques optiques et/ou électroniques. |
