| 发明名称 |
FORMATION OF THIN FILM BY PLASMA CVD METHOD |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH03247766(A) |
申请公布日期 |
1991.11.05 |
| 申请号 |
JP19900044803 |
申请日期 |
1990.02.26 |
| 申请人 |
RAIMUZU:KK |
发明人 |
SHIBATA TAKASHI;ISHII YOSHIRO;KOBAYASHI KUNIAKI |
| 分类号 |
C30B25/02;C23C16/34;C30B25/18 |
主分类号 |
C30B25/02 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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