| 摘要 |
Un ellipsomètre, servant en particulier à mesurer l'épaisseur des couches d'oxyde sur des pastilles de silicium à l'intérieur d'un four, comprend un analyseur (3), un dispositif de déflexion des faisceaux, une palette et un polariseur (2). Pour accroître la précision de la mesure, l'ellipsomètre est constitué de telle manière que le dispositif de déflexion des faisceaux comporte deux prismes (6, 9), que les prismes (6, 9), l'analyseur (3) et le polariseur (2) soient disposés à côté de la palette (11) et qu'il soit prévu deux tubes (4, 10) pour le guidage des faisceaux du polariseur (2) au premier prisme (6) et du second prisme (9) à l'analyseur (3). |
