发明名称 |
用于磁光记录的氧化锌或氧化铟基层的铂或钯/钴多层薄膜 |
摘要 |
本发明提供了一种磁光记录介质,包括有基底;溅射在基底上的氧化锌或氧化铟基层,以及溅射在氧化锌或氧化铟基层上的多层记录薄膜。其中氧化锌或氧化铟基层,是由200埃左右到4500埃左右厚(20毫微米左右到450毫微米左右),最好是由200埃左右到2000埃左右厚(20毫微米左右到200毫微米左右);多层记录薄膜,是由铂和钴或钯和钴的交替层组成的铂/钴或钯/钴多层薄膜,以及对于记录和读出所用的辐射,基底是透明的。 |
申请公布号 |
CN1055831A |
申请公布日期 |
1991.10.30 |
申请号 |
CN91102106.X |
申请日期 |
1991.03.15 |
申请人 |
纳幕尔杜邦公司 |
发明人 |
彼得·弗朗西斯·加西亚 |
分类号 |
G11B5/66;G11B5/70 |
主分类号 |
G11B5/66 |
代理机构 |
中国专利代理有限公司 |
代理人 |
黄家伟 |
主权项 |
1、一种磁一光记录介质,它包括有:基底、溅射在所说基底上的氧化锌或氧化铟基层、以及溅射在所说氧化锌或氧化铟基层上的多层记录薄膜,其特征在于:其中所说氧化铟或氧化锌基层厚约200埃到约4500埃(约20毫微米到约450毫微米),所说多层记录薄膜是铂/钴多层薄膜或钯/钴多层薄膜,是由铂或钴或钯和钴的交替层组成,所说基底对用于记录和读出的辐射是透明的,并且在溅射所说多层薄膜时所用的溅射气体是氩、氪、氙或其混合物。 |
地址 |
美国特拉华州 |