发明名称 TRANSISTOR A EFFET DE CHAMP ET PROCEDE DE FABRICATION.
摘要 <P>Un transistor à effet de champ avant une grille (2) asymétrique comprend des régions de source et de drain (4, 5) à concentration élevée. La région de drain a une plus faible profondeur et une plus faible concentration que la région de source, et elle est plus éloignée de l'électrode de grille. On peut ainsi obtenir un transistor à effet de champ idéal, ayant un effet de canal court réduit, une faible résistance de source et une transconductance élevée.</P>
申请公布号 FR2661278(A1) 申请公布日期 1991.10.25
申请号 FR19910004799 申请日期 1991.04.18
申请人 MITSUBISHI DENKI KK 发明人 MINORU NODA
分类号 H01L29/812;H01L21/285;H01L21/336;H01L21/338;H01L29/08;H01L29/423 主分类号 H01L29/812
代理机构 代理人
主权项
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