| 发明名称 |
SELECTED TRINUCLEAR NOVOLAK OLIGOMERS AND THEIR USE IN PHOTOACTIVE COMPOUNDS AND RADIATION SENSITIVE MIXTURES. |
| 摘要 |
L'invention concerne un oligomère trinucléaire de novolaque caractérisé par la formule (I), dans laquelle chaque X est choisi dans le groupe composé d'un groupe hydroxyle ou d'un groupe halogènure, et Y est choisi dans le groupe composé d'un groupe alcoyle inférieur contenant 1 à 4 atomes de carbone et d'un atome d'halogène. |
| 申请公布号 |
EP0451170(A1) |
申请公布日期 |
1991.10.16 |
| 申请号 |
EP19900900597 |
申请日期 |
1989.12.16 |
| 申请人 |
OCG MICROELECTRONIC MATERIALS, INC. |
发明人 |
JEFFRIES, ALFRED, T., III;BLAKENEY, ANDREW, J.;TOUKHY, MEDHAT, A. |
| 分类号 |
C07C39/15;C07C39/16;C07C39/367;C07C309/76;C08G8/08;C08G8/20;C08G8/22;C08G8/28;C08L61/04;C08L61/14;C09D5/00;C09D5/32;C09D161/04;C09D161/14;G03F7/022;G03F7/023;H01L21/027;H01L21/30 |
主分类号 |
C07C39/15 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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