发明名称 PHOTORESIST COMPOSITIONS CONTAINING COBALT (III) COMPOUND AND REDOX TRANSFER LIGAND.
摘要 Une composition d'imagerie travaillant en négatif adaptée à une utilisation en tant qu'agent de réserve de film sec, comprend un mélange de (a) un liant polymère, (b) un composé de Co (III) capable d'une réduction partielle en Co (II) lors d'une exposition à un rayonnement d'activation, et (c) un ligand de transfert rédox capable de réagir avec Co (II) pour former un chélate Co (II) réduisant le composé de Co (III) adjacent restant et formant un chélate de Co (III) efficace pour conférer une solubilité différentielle d'image à la composition. On peut exposer la composition sur une image à un rayonnement d'activation tel qu'un laser, la chauffer, et la développer à l'aide d'un révélateur afin de former une image de réserve dans les zones exposées. Un élément comprenant un support ainsi qu'une couche de la composition précitée est particulièrement utile dans la fabrication de plaques de circuits imprimés par imagerie directe à laser.
申请公布号 EP0449969(A1) 申请公布日期 1991.10.09
申请号 EP19900901452 申请日期 1989.12.21
申请人 EASTMAN KODAK COMPANY 发明人 DOMINH THAP
分类号 G03F7/029;C08K5/00;C08L81/00;C08L81/10;G03C1/67;G03F7/038;H01L21/027;H05K3/00 主分类号 G03F7/029
代理机构 代理人
主权项
地址