| 发明名称 |
Phase-shifting mask for projection photolithography and method for producing it |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
IE911163(A1) |
申请公布日期 |
1991.10.09 |
| 申请号 |
IE19910001163 |
申请日期 |
1991.04.08 |
| 申请人 |
SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT |
发明人 |
CHRISTOPH NOELSCHER;LEONHARD MADER |
| 分类号 |
G03F1/00;H01L21/027;(IPC1-7):G03F1/14 |
主分类号 |
G03F1/00 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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