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发明名称 Method of forming high purity metal silicides targets for sputtering
摘要
申请公布号 US5055246(A) 申请公布日期 1991.10.08
申请号 US19910643490 申请日期 1991.01.22
申请人 L'AIR LIQUIDE, SOCIETE ANONYME POUR L'ETUDE ET L'EXPLOITATION DES PROCEDES GEORGES CLAUDE 发明人 JALBY, PIERRE;CLAVERIE, PIERRE;ROTMAN, FREDERIC;KIMURA, MASAO;FRIEDT, JEAN-MARIE;ARAI, JUICHI
分类号 C23C14/34;C23C16/42;H01L21/28;H01L21/285 主分类号 C23C14/34
代理机构 代理人
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