发明名称 GRAPHOTAXIALLY FORMED PHOTOSENSITIVE DETECTOR ARRAY.
摘要 L'invention concerne un substrat polycristallin ou amorphe (14) ayant une seule couche cristalline (24) formée sur le substrat pour produire un réseau de détecteurs photosensibles ainsi qu'un procédé de formation. La couche unique cristalline est développée par graphotaxie, c'est-à-dire épitaxie latérale, sur le substrat cristallin non unique. Un cristal d'ensemencement (16) du matériau comprenant la couche à développer est noyé dans le substrat. La croissance graphotaxiale se produit depuis le cristal d'ensemencement et progresse à travers la surface du substrat. Plusieurs procédés d'obtention d'une croissance graphotaxiale sont décrits.
申请公布号 EP0448692(A1) 申请公布日期 1991.10.02
申请号 EP19900915698 申请日期 1990.10.09
申请人 GRUMMAN AEROSPACE CORPORATION 发明人 SOLOMON, ALLEN, L.
分类号 H01L21/20;H01L21/36;H01L27/144;H01L31/0264;H01L31/0368;H01L31/103;H01L31/18 主分类号 H01L21/20
代理机构 代理人
主权项
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