| 发明名称 |
DISPOSITIF POUR RENDRE HOMOGENE L'IMPLANTATION D'IONS SUR LA SURFACE D'ECHANTILLONS PLANS. |
| 摘要 |
<P>Dispositif pour rendre homogène l'implantation d'ions sur la surface d'échantillons plans disposés sur des supports (12) répartis à l'intérieur d'un tambour rotatif (14). Des moyens (20, 22, 28) préférentiellement magnétiques, pour la mise en rotation de ces supports (12) permet de présenter les échantillons sous le faisceau d'ions avec des angles différents à chaque tour de tambour (14) et d'éviter ainsi les problèmes liés à la canalisation des ions dans les échantillons. <BR/> Application à l'isolation en surface de plaquettes semiconductrices.</P>
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| 申请公布号 |
FR2660106(A1) |
申请公布日期 |
1991.09.27 |
| 申请号 |
FR19900003740 |
申请日期 |
1990.03.23 |
| 申请人 |
COMMISSARIAT A ENERGIE ATOMIQUE |
发明人 |
LAMURE JEAN MICHEL;MICHAUD JEAN FRANCOIS |
| 分类号 |
C23C14/48;C23C14/50;H01J37/317;H01L21/265 |
主分类号 |
C23C14/48 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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