发明名称 | 用光照制造超导图形的方法 | ||
摘要 | 用溅射法在衬底上淀积超导陶瓷薄膜,借助于陶瓷的低导热率,用激光束照射陶瓷薄膜,以通过升华除去受照射的部分,从而在陶瓷薄膜上形成图形。 | ||
申请公布号 | CN1013906B | 申请公布日期 | 1991.09.11 |
申请号 | CN88101989.5 | 申请日期 | 1988.04.07 |
申请人 | 株式会社半导体能源研究所 | 发明人 | 山崎舜平 |
分类号 | H01B12/02;H01F5/08;H01L39/12;H01L39/24 | 主分类号 | H01B12/02 |
代理机构 | 中国专利代理有限公司 | 代理人 | 肖掬昌;肖春京 |
主权项 | 1.一种制造超导陶瓷图形的方法;其特征在于该方法包括下列步骤:在一衬底上形成一超导陶瓷起始层,所述衬底由热膨胀系数为陶瓷层的50%至15%的材料制成,用光照射所述陶瓷层的一部分并使该部分升华,以及以热处理方法将该陶瓷层退火,以使它变成超导性。 | ||
地址 | 日本神奈川县厚木市 |