首页 产品 黄页 商标 征信
会员服务 注册 登录 
全部
 |
企业名
 |
法人/股东/高管
 |
品牌/产品
 |
地址
 |
经营范围
发明名称 Self-aligned masking for ultra-high energy implants with application to localized buried implants and insolation structures
摘要
申请公布号 US5043292(A) 申请公布日期 1991.08.27
申请号 US19900531509 申请日期 1990.05.31
申请人 NATIONAL SEMICONDUCTOR CORPORATION 发明人 ARONOWITZ, SHELDON;HART, COURTNEY L.;BUYNOSKI, MATTHEW
分类号 H01L21/266;H01L21/316;H01L21/74;H01L21/76;H01L21/762 主分类号 H01L21/266
代理机构 代理人
主权项
地址
您可能感兴趣的专利
©  2024 传众  czvv.com