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<p>Bei dem Verfahren zur Steuerung einer Anlage zur Plasmabehandlung von Werkstücken weist die Anlage eine Gleichspannungsquelle für die Erzeugung einer Glimmentladungsspannung V auf, die einerseits eine Regeleinheit zur Regelung der Höhe der Glimmentladungsspannung V und andererseits eine Schalteinheit umfasst, durch welche die Glimmentladungsspannung V in unterschiedlichen Puls-Pausen-Verältnissen periodisch unterbrochen werden kann. Weiterhin hat die Anlage einen die Temperatur der Werkstücke erfassenden Sensor, der mit der Regeleinheit so verbunden ist, dass die Glimmentladungsspannung V hochgeregelt wird, wenn der erfasste Temperaturwert unterhalb einer vorgegebenen Behandlungstemperatur liegt und erniedrigt wird, wenn der erfasste Temperaturwert über der Behandlungstemperatur liegt. Die Glimmentladungsspannung V wird dergestalt überwacht, das bei Unterschreiten eines unteren Schwellenwertes das Puls-Pausen-Verhältnis der Glimmentladungsspannung V verringert wird. Bei Überschreiten eines oberen Schwellenwertes wird das Puls-Pausen-Verhältnis vergrössert.</p> |
