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发明名称 Deep u.v. photoresist process utilizing compositions containing polycyclic cyclopentane 2-diazo-1,3-dione
摘要
申请公布号 US5039596(A) 申请公布日期 1991.08.13
申请号 US19890373358 申请日期 1989.06.29
申请人 HOECHST CELANESE CORPORATION 发明人 WU, CHENGJIU;MOORING, ANNE;YARDLEY, JAMES T.
分类号 G03F7/004;C07C13/10;C07C245/12;G03F7/016;G03F7/039;H01L21/027 主分类号 G03F7/004
代理机构 代理人
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