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经营范围
发明名称
METHOD OF FORMING SEMICONDUCTOR FILM
摘要
申请公布号
JPH03185817(A)
申请公布日期
1991.08.13
申请号
JP19890325034
申请日期
1989.12.15
申请人
SEIKO EPSON CORP
发明人
IWAMATSU SEIICHI
分类号
H01L21/205;H01L21/263
主分类号
H01L21/205
代理机构
代理人
主权项
地址
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