| 发明名称 |
METHOD AND APPARATUS FOR ELECTRON BEAM EXPOSURE |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH03183118(A) |
申请公布日期 |
1991.08.09 |
| 申请号 |
JP19890322225 |
申请日期 |
1989.12.12 |
| 申请人 |
TOSHIBA CORP;TOSHIBA MICRO ELECTRON KK |
发明人 |
SUZUKI TOSHIYUKI |
| 分类号 |
H01L21/30;H01J37/304;H01J37/317;H01L21/027 |
主分类号 |
H01L21/30 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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