| 发明名称 |
Verfahren zur Herstellung einer vakuumdicht verschlossenen Fototransistoranordnung |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
DE1041181(B) |
申请公布日期 |
1958.10.16 |
| 申请号 |
DE1954S037080 |
申请日期 |
1954.01.08 |
| 申请人 |
SIEMENS & HALSKE AKTIENGESELLSCHAFT |
发明人 |
FUERST DIPL.-PHYS. OTTO;HENKER DR. HEINZ;SIEBERTZ DR. KARL |
| 分类号 |
H01L23/10;H01L29/00;H01L31/00;H01L31/18 |
主分类号 |
H01L23/10 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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