发明名称 PHOTOCURABLE RESIN COMPOSITION
摘要 L'invention se rapporte à une composition de résine photopolymérisable, qui comprend: (a) une résine modifiée qu'on prépare en faisant réagir soit un polymère diénique conjugué, ayant un poids moléculaire moyen en nombre compris entre 500 et 5000 et une teneur vinylique d'au moins 50 en pourcentage molaire, soit un produit d'addition préparé à partir du polymlère diénique et à partir d'un anhydride d'acide dicarboxylique alpha,beta-insaturé et ayant une température de ramollissement comprise entre 70 et 200 °C, mesurée par la méthode de mesure du point de ramollissement à bille et à anneau définie par JIS K 2531-60, avec un ester monocarboxylique alpha,beta-insaturé ayant un groupe hydroxyle alcoolique représenté par la formule générale (I) en vue d'obtenir l'ouverture de la chaîne fermée d'un pourcentage molaire d'au moins 10 des des groupes d'anhydride acide du produit d'addition. Dans la formule (I), R1 et R2 représentent chacun un atome d'hydrogène ou un groupe méthyle, et R3 représente un résidu d'un C2 ou d'un hydrocarbure supérieur qui peut contenir un hétéroatome; (b) une cire ayant un point de fusion de 100 °C au plus, déterminé par la méthode d'égouttage définie par ASTM D 127; et (c) un initiateur de photopolymérisation.
申请公布号 WO9111472(A1) 申请公布日期 1991.08.08
申请号 WO1991JP00104 申请日期 1991.01.29
申请人 NIPPON PETROCHEMICALS CO., LTD. 发明人 NARAHARA, HISAO;INOUE, SATORU;KUROKI, TERUHISA;YAMAGUCHI, TATSUO;OOMIKA, HIROYOSHI
分类号 C08L91/06;C08C19/28;C08F2/48;C08F2/50;C08F8/14;C08F8/46;C08F279/00;C08F279/02;C08F290/00;C08F290/12;C08F299/00;C08L13/00;C08L91/00;C09D5/00;C09D5/44;C09D109/00;G03F7/038;H05K3/28 主分类号 C08L91/06
代理机构 代理人
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