发明名称 PHOTOCURABLE RESIN COMPOSITION
摘要 Composition de résine photodurcissable comportant: (a) une résine modifiée préparée par la réaction d'un polymère de diène conjugué ayant un poids moléculaire moyen en nombre compris entre 500 et 5000 et une teneur en vinyle d'au moins 50 mole %, ou bien d'une adduction préparée à partir du polymère de diène et d'un anhydride d'acide dicarboxylique non saturé-alpha,beta, et ayant une plage de ramollissement comprise entre 70 et 200 °C telle qu'elle est mesurée par le procédé bille et anneau de température de ramollissement de JIS K 2531-60, avec un ester monocarboxylique non saturé-alpha,beta possédant un groupe hydroxyle alcoolique représenté par la formule générale (I), dans laquelle R1 et R2 représentent chacun un atome d'hydrogène ou un groupe méthyle, et R3 représente un résidu de C2 ou d'un hydrocarbure supérieur pouvant contenir un hétéroatome, afin d'effectuer l'ouverture du noyau d'au moins 10 mole % des groupes d'anhydride d'acide de l'adduction; (b) une poudre organique ou inorganique dont les particules présentent un diamètre moyen égal ou inférieur à 5 mum, ou une poudre inorganique greffée préparée par le greffage d'un résidu hydrocarbure (non) substitué et (non) saturé sur une poudre inorganique dont les particules ont une dimension égale ou inférieure à 0,1 mum, le nombre total d'atomes de carbone provenant des résidus hydrocarbures et greffés sur un atome inorganique étant égal ou supérieur à 4; et (c) un amorceur de la photopolymérisation.
申请公布号 WO9111474(A1) 申请公布日期 1991.08.08
申请号 WO1991JP00106 申请日期 1991.01.29
申请人 NIPPON PETROCHEMICALS CO., LTD. 发明人 IKEDA, NOBUO;NARAHARA, HISAO;IIZUKA, MINORU;INOMATA, TOSHIAKI;YAMAGUCHI, TATSUO;OHMIKA, HIROYOSHI;SHIRATORI, FUMIO
分类号 C08C19/28;C08F290/12;C08F292/00;C08K9/04;C08L13/00;G03F7/038 主分类号 C08C19/28
代理机构 代理人
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