| 发明名称 |
METHOD OF FORMING RECRYSTALLIZED SILICON FILM |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH03181120(A) |
申请公布日期 |
1991.08.07 |
| 申请号 |
JP19890321128 |
申请日期 |
1989.12.11 |
| 申请人 |
SHARP CORP |
发明人 |
SHIRAKAWA KAZUHIKO;KOBA MASAYOSHI |
| 分类号 |
H01L21/20;H01L21/268;H01L21/336;H01L29/78;H01L29/786 |
主分类号 |
H01L21/20 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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