发明名称 Radiation sensitive composition and radiation sensitive recording material produced therefrom.
摘要 Die Erfindung betrifft ein positiv arbeitendes strahlungsempfindliches Gemisch und ein hieraus mit einem Schichtträger hergestelltes Aufzeichnungsmaterial. Das Gemisch enthält als wesentliche Bestandteile ein 1,2-Chinondiazid und/oder eine Kombination aus einer unter Einwirkung von aktinischer Strahlung starke Säure bildenden Verbindung und einer Verbindung mit mindestens einer spaltbaren C-O-C- Bindung und ein polymeres Bindemittel mit wiederkehrenden Einheiten der allgemeinen Formel I <IMAGE> worin R1: ein Wasserstoff- oder Halogenatom, eine Cyanid- oder eine Alkylgruppe, R2, R3: gleich oder verschieden sind und Wasserstoff, Alkyl- oder Arylgruppen, R4, R5 und R6: gleich oder verschieden sind und Wasserstoff-oder Halogenatome, Alkyl-, Alkoxy- oder Arylgruppen, X: die zur Vervollständigung eines ein- oder mehrkernigen carbocyclischen aromatischen Ringsytems erforderlichen Atome und; n: 1, 2 oder 3 bedeuten. Mit dem erfindungsgemäßen Gemisch ergeben sich Flachdruckplatten mit hoher Druckauflage, die man thermisch nachhärten kann und die gute Chemikalienbeständigkeit besitzen. Es können hiermit auch Photoresists mit hoher Wärmestandfestigkeit hergestellt werden.
申请公布号 EP0440057(A2) 申请公布日期 1991.08.07
申请号 EP19910100672 申请日期 1991.01.21
申请人 HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT 发明人 ELSAESSER, ANDREAS, DR. DIPL.-CHEM.;MOHR, DIETER, DR. DIPL.-CHEM.
分类号 G03F7/004;G03F7/023;G03F7/033;G03F7/039;H01L21/027;H01L21/30 主分类号 G03F7/004
代理机构 代理人
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