| 发明名称 |
High-speed film forming method by microwave plasma chemical vapor deposition (CVD) under high pressure |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
US5037666(A) |
申请公布日期 |
1991.08.06 |
| 申请号 |
US19900561639 |
申请日期 |
1990.08.02 |
| 申请人 |
UHA MIKAKUTO PRECISION ENGINEERING RESEARCH INSTITUTE CO., LTD. |
发明人 |
MORI, YUZO |
| 分类号 |
C23C16/50;C23C16/511;H01J37/32 |
主分类号 |
C23C16/50 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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