发明名称 PHOTOSENSITIVE COMPOSITION AND MANUFACTURE OF PHOTORESIST AND PRINTING PLATE BODY USING THE SAME
摘要
申请公布号 JPH03179447(A) 申请公布日期 1991.08.05
申请号 JP19900318157 申请日期 1990.11.26
申请人 BASF AG 发明人 GEERUHARUTO BAUAA;GEERUHARUTO HOFUMAN;FURIIDORITSUHI ZAITSU
分类号 G03F7/004;C07D233/88;G03F7/029;G03F7/033 主分类号 G03F7/004
代理机构 代理人
主权项
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