| 主权项 |
[57]申请专利范围:1.一种敞泵具有能够以光学制版术予以加工之材枓所制成之第一层晶片(11 ;27:41;50)以此技术来界定至少含有一个第二层支撑晶片(1;26 40,)面对面之方式黏置于第一层晶片上,所形成之泵激容器(15;4)还有第一个检测型之活门江6 ;33: 4“,经由此活门,前述泵激容器(5;4)得以选择性地与泵浦的入口(2:30; 50),以及第二个薄膜型之活门(18 ;36;40)相通,而经由第二活门,前述泵激容器可以选择性地与泵浦之出口(3;36a;43)相通,同时提供许多装置(13 ;14;29;49)来促使前述泵激容器(15;44)在容积方面产生周期性变化,其前迤出口(3;36a;4)直接与前述泵激容器之一个隔离空间(18d)相通,相通之方式是藉由前述第二活门(18 ;36;40) 来达成,并位于此活门之同一侧当作一个通道(19:20),经此通道,该活门与泵激容器以一方式相通,使得分则流通于此泵激容器和该出口之压力,均作用在使前述第二活门开启上方向上,同时使得前述第二活门(18 :36: 46)是在开放的状态下,经前述泵激容器 (;!5;4) 以某方式与前述第一活门(16 :3;:45)相通,使得在泵浦的输出状态下,此容器能直接经由位于开启位置的第二活门,与前述出口(3:36a:43)相通。2.根据申请专利范围第1项之微泵,其包含一第一层晶片(12 ;28:42:42; 55)覆盖箸前碰第一晶片(11 ;27; 41),至少盖住其表面之部分区域,并由此界定出至少一个容器(15 ;21:51: 54),设计来形成泵泵浦之主动空腔。3.根据申请专利范围第2项之微鳵,其中用来提供引起泵激容器之容积产生周期性变化之装置,包含有一压电材料碟(13;20,固定于前述第三晶片上(12;20)之一处与前述泵激容器(15)相重合之区域。4 根据申请专利范围第2项之微泵,其中用以提供引起泵激容器之容积产生周期性变化之装置,包含一压电材料碟(49),其中前述泵激容器(44)是由前述第一(4 1)及第二(4 0)晶片所界定,而其中述及之压电材料碟是固定于前述第一晶片之一处与前述泵激容器(4 4)相.重合之区域内。5.根据申请专利范围第2至4项中任一项之微泵,其中前述第一晶片(55)亦设计来形成至少一个连接器,经由该连接器,预备歹f以连接至一外部装置(图11)。6.根据申请专利范围第1项之微泵,其中有一侦测器,例如一应变感测计(11八),是固定于 前述第一晶片(11)上,以监看泵浦之正常工作。7.根据申请专利范围第1项之微泵其中前述第一活门(10 ;11:45)以及/或者前述第二活门(10 :]0: 40)均包含一个装置于前述第一晶片之平面上的薄膜(16n),在此薄膜中央配置有一环状脊梁(16c),其顶部设讨来承载第一晶片(1; 12:26;28;4(); 41),当作第一活门之基座 ,而其中至少前述脊梁(16c) 是以一氧化层(17)所覆盖,使薄膜中含有一预设张力,以致此活门一般是关闭箸的。8.根据申请专利范围第7项之微泵,其中第二活之薄膜(18d)至少有部分是由产生前向应力于薄膜中之材料层所覆盖,藉此可引起一额外之张力于其中。9.根据申请专利范围第7或8项之微泵,其中往与前述脊梁(10()位在相反之一侧上,前述薄膜(16a)配有一凸起(]0 ;图6)于其上,并向另一泵浦上之晶片0.8)延伸而去;其设计是用来限制薄膜(10之行程,当此薄膜受到一额外压力之情形发生时。10.根据申请专利范围第7项之微泵,其中分则配置于前述活门之薄膜(16a)上之脊楔(16c)是安置在这些薄膜之相反面上的,(活门45和46,图8,9和1叫oll.根据申请专利范围第1项之微泵,其中泵浦入口(2;30; 5叫与一补偿容器0.1 :30:51; 54)相通,该补偿容器装置于前述第二活门(18 ;]6: 40)之上,以便在受到统通</sub>F前述入口处之压力的影响之下,能将活门关闸 |
