| 发明名称 |
PLASMA TREATING APPARATUS AND METHOD THEREFOR |
| 摘要 |
|
| 申请公布号 |
JPH03170666(A) |
申请公布日期 |
1991.07.24 |
| 申请号 |
JP19890307718 |
申请日期 |
1989.11.29 |
| 申请人 |
HITACHI LTD |
发明人 |
FUKUDA TAKUYA;OGAMI MICHIO;SONOBE TADASHI |
| 分类号 |
C23C14/40;C23C14/34;C23C14/35;C23C16/50;C23C16/511;C23F4/00;H01J37/32;H01L21/203;H01L21/205;H01L21/302;H01L21/3065;H01L21/31 |
主分类号 |
C23C14/40 |
| 代理机构 |
|
代理人 |
|
| 主权项 |
|
| 地址 |
|
