| 发明名称 |
METHOD OF MANUFACTURING A SEMICONDUCTOR DEVICE INVOLVING A STEP OF PATTERNING AN INSULATING LAYER |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
EP0425957(A3) |
申请公布日期 |
1991.07.24 |
| 申请号 |
EP19900120205 |
申请日期 |
1990.10.22 |
| 申请人 |
KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA |
发明人 |
TSUJI, HITOSHI, C/O INTELLECTUAL PROPERTY DIVISION |
| 分类号 |
H01L21/3213;H01L21/027;H01L21/285;H01L21/311;H01L21/335;H01L21/338;(IPC1-7):H01L21/311 |
主分类号 |
H01L21/3213 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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