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发明名称 NEGATIV ARBEITENDE PHOTORESISTLACKZUSAMMENSETZUNG ZUR VERWENDUNG AUF POLYMETHYLMETHACRYLAT.
摘要
申请公布号 DE3484696(D1) 申请公布日期 1991.07.18
申请号 DE19843484696 申请日期 1984.08.17
申请人 NORTH AMERICAN PHILIPS CORP., NEW YORK, N.Y., US 发明人 SPEIGEL, KENNETH, NL-5656 AA EINDHOVEN, NL
分类号 G03C1/66;C08L29/00;C08L29/04;G02B3/00;G03B21/62;G03F7/033;G03F7/038;G03F7/04;H01J9/227;(IPC1-7):G03F7/04;H01J9/22 主分类号 G03C1/66
代理机构 代理人
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