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发明名称 WASHING METHOD OF SEMICONDUCTOR WAFER
摘要
申请公布号 JPH03161931(A) 申请公布日期 1991.07.11
申请号 JP19890302712 申请日期 1989.11.21
申请人 MITSUBISHI MATERIALS CORP;JAPAN SILICON CO LTD 发明人 TATSUTA JIRO;YOSHIMI TOSHIHIRO;MORITA ETSURO;SHIMANUKI YASUSHI
分类号 B08B3/08;C11D7/10;H01L21/304;H01L21/306;H01L21/308 主分类号 B08B3/08
代理机构 代理人
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