发明名称 | 干法工艺用的大面积均匀可调永磁磁路结构 | ||
摘要 | 本实用新型涉及干法工艺用的大面积均匀可调永磁磁路结构。本实用新型提供一种磁控反应离刻蚀机上施加磁场的永磁磁路结构,该永磁磁路结构设于反应室内直接构成磁场,由一对包括许多永磁磁铁单元的极板,一个软铁回路以及角铁组成。通过调整可使硅片刻蚀区形成均匀的强度可调的磁场。本实用新型磁路结构简单,可降低设备制造成本,提高精度,提高设备可靠性和易操作性。 | ||
申请公布号 | CN2080233U | 申请公布日期 | 1991.07.03 |
申请号 | CN90225947.4 | 申请日期 | 1990.12.19 |
申请人 | 中国科学院微电子中心 | 发明人 | 罗澎;金钟元;韩阶平;马俊如 |
分类号 | H01L21/306;B44C1/22 | 主分类号 | H01L21/306 |
代理机构 | 三友专利事务所 | 代理人 | 杨佩璋 |
主权项 | 1、大面积均匀可调永磁磁路结构,其特征在于:在反应室1内的阴极2两侧设有多块成排永磁磁铁单元5与在该成排永磁磁铁单元内侧所加软铁板6组成的极板4,在该极板4外侧设有由二个软铁回路纵长部分71、二个软铁回路水平部分72以及四个软铁回路斜角部分73组成非正八角形或上部呈圆弧形的软铁回路7,在两块对立的软铁板6二端内侧分别设有角铁或由软铁棒排成角状结构8,当反应室1的直径为280毫米时,阴极直径为60~110毫米,极板4长度为140~165毫米,软铁回路水平部分72的长度为60~110毫米,体积为10×10×10毫米的永磁磁铁单元5在每个极板4上为54块。 | ||
地址 | 100010北京市650信箱中科院微电子中心三室 |