| 发明名称 |
MEASUREMENT OF EXPOSURE CONDITIONS |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH03155112(A) |
申请公布日期 |
1991.07.03 |
| 申请号 |
JP19890294590 |
申请日期 |
1989.11.13 |
| 申请人 |
NIKON CORP |
发明人 |
TAKATSU NORIHIKO;SUWA KYOICHI;NAKAMURA SHINICHI;HOSOKAWA HIROAKI;HIRUKAWA SHIGERU |
| 分类号 |
G03F7/20;G03F7/207;H01L21/027;H01L21/30 |
主分类号 |
G03F7/20 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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