发明名称 | 晶须补强氮化硅复合材料制造方法 | ||
摘要 | 本发明属于一种碳化硅晶须补强氮化硅复合材料的制造方法,是用Si<SUB>3</SUB>N<SUB>4</SUB>、SiO<SUB>2</SUB>、碳黑及助烧结剂为原料,于1500~1900℃,1.1~10atmN<SUB>2</SUB>压力下合成SiC晶须,然后在600~700℃脱碳,脱碳后的复合原料于1700~1900℃,N<SUB>2</SUB>气氛下热压0 5~2小时,即可得到致密的Si<SUB>3</SUB>N<SUB>4</SUB>-SiC(w)复合材料,本发明得到的复合材料的断裂韧性为8.0MPa·m<SUP>1/2</SUP>常温强度为670MPa,经1300℃氧化100小时后在1300℃测得高温强度为621MPa,仅比常温强度降低了7.3%。 | ||
申请公布号 | CN1052652A | 申请公布日期 | 1991.07.03 |
申请号 | CN91100598.6 | 申请日期 | 1991.02.04 |
申请人 | 冶金工业部钢铁研究总院 | 发明人 | 柳光祖;宁慎泰 |
分类号 | C04B35/80;C04B35/58 | 主分类号 | C04B35/80 |
代理机构 | 冶金专利事务所 | 代理人 | 金向荣;张小娟 |
主权项 | 1、一种晶须补强氮化硅复合材料的制造方法(以下简称“制造方法”),是将所需的原料混合之后于1500~1900℃经1~2h合成,然后在600~700℃保温1~3h脱碳,再于1700~1900℃下热压0.5~2h,即可得到致密的Si3N4-SiC(w)复合材料,其特征在于:所述的原料为Si3N4SiO2、碳黑及助烧结剂,于1500~1900℃下,1.1~10atmN2压力下合成复合原料。 | ||
地址 | 100081北京市海淀区学院南路76号 |