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发明名称 FORMATION OF PATTERN AND MANUFACTURE OF SEMICONDUCTOR DEVICE
摘要
申请公布号 JPH03141632(A) 申请公布日期 1991.06.17
申请号 JP19890278596 申请日期 1989.10.27
申请人 HITACHI LTD;HITACHI VLSI ENG CORP 发明人 SUGA OSAMU;OKAZAKI SHINJI;SUZUKI YOSHISHIGE;SASAKI EIJI
分类号 H01L21/027 主分类号 H01L21/027
代理机构 代理人
主权项
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