| 发明名称 |
PLASMA CVD DEVICE AND CLEANING METHOD FOR INSIDE OF REACTION CHAMBER THEREOF |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH03140470(A) |
申请公布日期 |
1991.06.14 |
| 申请号 |
JP19890278729 |
申请日期 |
1989.10.27 |
| 申请人 |
HITACHI LTD |
发明人 |
YAMAGUCHI YASUHIRO;OTSUBO TORU |
| 分类号 |
C23C16/44;C23C16/50;C23C16/511;H01L21/205;H01L21/302;H01L21/3065;H01L21/31 |
主分类号 |
C23C16/44 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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