| 主权项 |
1﹒一种聚合型多烷基一1一恶一二螺癸烷之聚合物,以化学式I表示其中,n示为2到50之整数Y示为化学式Ⅱ或是Ⅲ之官能团标示3与4之处系二螺癸烷系统中环的位置,并且氮之一个键与丙烯一2一氧基官能团中之CH2相连结,R1示为氢原子,R2示氢原子,R3示氢原子,R4为甲基,R5及R6为相同或是相异,并且示为氢原子,C1一C30烷基官能团,或为一基,或者R5及R6,由碳原子相连结,形成未被取代或是被1到4个C1一C4烷基取代之C5一C18环烷基官能团或是化学式为之官能团,及R7示为氢原子或是在单位单元未端之R7并不存在,因而氧原子与末端CH2基团连结,生成环氧丑@A烯环。2﹒如申请专利范围第1项之化合物,其系用来稳定合成之聚烯烃。3﹒如申请专利范围第2项之化合物,其中该聚烯烃系为一含有卤素之聚烯烃。4﹒如申请专利范围第2项之化合物,其中该聚烯烃系聚丙烯酸或是聚甲丙烯酸。5﹒如申请专利范围第2项之化合物,其该聚烯烃系聚苯乙烯之均或是共聚合物。6﹒一种具有抗光线损害之经稳定化合成聚合物的制法,包括加入如申请专利范围第1项之稳定剂,此供稳定化之物质,为该聚合物重之0﹒01%到10%。7﹒一种合成聚合物,具有抗紫外线降解,并且含有如申请专利范围第1项之稳定剂,稳定剂之量为聚合物重之0﹒01%到10%。 |
