| 主权项 |
1﹒一种悬吊运送机包含:一支撑构件;以及至少一吸引单元设于上述支撑构件之底面,该吸引单元有一扁平下表面,至少一吸引部份设于上述下表面并能吸引一将予运送之工件,及一压缩空气喷射部份设于上述下表面用以将压缩空气喷向工件俾在吸引单元下表面与吸引部份所吸引之工件之间造成一空间:因而上述工件被吸引单元所吸引而悬吊于空中,致在其本身与吸引单元下表面之间留出一预定空间,俾在不与上述吸引单元接触之状态下被运送。2﹒如申请专利范围第1项之悬吊运送机,其中上述吸引部份有一自吸引单元下表面之概括平面凹人之凹部。3﹒如申请专利范围第1或第2项之悬吊运送机,其中上述吸引部份受到真空供给俾将工件吸向吸引单元之下表面。4﹒如申请专利范围第1或第2项之悬吊运送机,其中上述吸引部份包括一磁铁以将待运送之磁性工件以磁性方式吸向吸引单元之下表面。5﹒如申请专利范围第1或第2项之悬吊运送机,其中上述吸引部份设于吸引单元下表面之中央,并且上述压缩空气喷射部份包括多个设置为环绕吸引部份之压缩空气喷口。6﹒如申请专利范围第1或第2项之悬吊运送机,其中上述吸引单元在其下端设有一导引部份用以于运送时导引上述工件。7﹒一种悬吊运送机包含:一吸引总成,系沿工件之运送方向延伸,并有一扁平下表面作为平运送通道,多値吸引部份沿运送方向以适当间距相隔配设于上述运送通道,以便吸引上述工件;以及多个压缩空气喷射部份用以将压缩空气喷向工件,俾在吸引总成下表面与吸引部份所吸引之工件之间造成一空向。8﹒如申请专利范围第7项之悬吊运送机,其中上述吸引部份有一自吸引单元下表面之概括平面凹入之凹部。9﹒如申请专利范围第7或第8项之悬吊运送机,其中上述吸引部份受到真空供给俾将工件吸向吸引总成之下表面。10﹒如申请专利范围第7或第8项之悬吊运送机,其中上述吸引部份包括一磁铁以将待运送之磁性工件以磁性方式吸向吸引总成之下表面。11﹒如申请专利范围第7或第8项之悬吊运送机,其中上述吸引部份设于吸引总成下表面之中央,并且上述压缩空气喷射部份包括多个设置为环绕吸引部份之压缩空气喷口。12﹒如申请专利范围第1或第8项之悬吊运送机,其中上述吸引总成在其下端设有导引部份用以于运送时导引上述工件。图示简单说明图1为沿图2之1一1线所取之剖面图图2为该吸引单元之平面图;图3为一实施例之正视图,图4为本发明悬吊运送机第二实施例之平面图,图5为本发明悬吊运送机第三实施例之透视图 |
