发明名称 |
Process for reducing the reflectivity of sputtered layers. |
摘要 |
Zur Verringerung der Reflektivität von gesputterten Schichten wird am Ende des Sputterprozesses ein Prozeßparameter so geändert, daß sich eine oberflächennahe Teilschicht mit verringerter Reflektivität ergibt.
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申请公布号 |
EP0429905(A2) |
申请公布日期 |
1991.06.05 |
申请号 |
EP19900121327 |
申请日期 |
1990.11.07 |
申请人 |
SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT |
发明人 |
JOSWIG, HELLMUT, DR. |
分类号 |
G02B1/11;C23C14/00;C23C14/34;H01L21/203 |
主分类号 |
G02B1/11 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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