发明名称 Process for reducing the reflectivity of sputtered layers.
摘要 Zur Verringerung der Reflektivität von gesputterten Schichten wird am Ende des Sputterprozesses ein Prozeßparameter so geändert, daß sich eine oberflächennahe Teilschicht mit verringerter Reflektivität ergibt.
申请公布号 EP0429905(A2) 申请公布日期 1991.06.05
申请号 EP19900121327 申请日期 1990.11.07
申请人 SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT 发明人 JOSWIG, HELLMUT, DR.
分类号 G02B1/11;C23C14/00;C23C14/34;H01L21/203 主分类号 G02B1/11
代理机构 代理人
主权项
地址