发明名称 REMOTE ION SOURCE PLASMA ELECTRON GUN.
摘要 Est décrit un canon électronique à large surface dans lequel un faisceau électronique émane d'électrons d'émission secondaire émis par une cible bombardée par des ions. Un bâti principal cylindrique (12) comporte une région centrale où est située la cible d'émission secondaire, et des bâtis auxiliaires (52 et 54) sur des côtés opposés de la cible, à l'extérieur du bâti principal (12), contiennent des plasmas ioniques à faible température. Des faisceaux ioniques sont extraits des régions périphériques des plasmas et pénètrent dans des fentes ou des orifices étroits (38 et 40) reliant les bâtis auxiliaires (52 et 54) avec le bâti principal (12). Une pression supérieure dans les bâtis auxiliaires (52 et 54), par rapport au bâti principal (12), supporte le flux ionique qui aboutit dans le bâti principal. Les faisceaux ioniques présentent un faible angle d'incidence par rapport au plan de la cible et peuvent être légèrement au-dessus ou au-dessus de la cible. Dans le cas où le faisceau pénètre depuis un point situé au-dessus de la cible, cette dernière est segmentée comme des stores vénitiens. Les électrons secondaires quittent le bâti principal (12) par une fenêtre en feuille (44) de sorte que le faisceau électronique est presque perpendiculaire aux faisceaux ioniques.
申请公布号 EP0428527(A1) 申请公布日期 1991.05.29
申请号 EP19890906893 申请日期 1989.05.19
申请人 AMERICAN INTERNATIONAL TECHNOLOGIES, INC 发明人 WAKALOPULOS, GEORGE
分类号 H05H1/48;G21K5/04;H01J3/02;H01J37/073;H01J37/077;H05H7/08 主分类号 H05H1/48
代理机构 代理人
主权项
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