| 发明名称 |
MANUFACTURE OF FINE STRUCTURE DEVICE BY THE USE OF PLASMA ETCHING OF SILICON |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH03114226(A) |
申请公布日期 |
1991.05.15 |
| 申请号 |
JP19900102777 |
申请日期 |
1990.04.18 |
| 申请人 |
AT & T TECHNOL INC |
发明人 |
FURAMU DANIERU ROORENSU;MEIDAN DAN;WAN DEIBUITSUDO NINNKOU |
| 分类号 |
C23F4/00;H01L21/302;H01L21/3065;H01L21/3213 |
主分类号 |
C23F4/00 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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