| 发明名称 |
CONTAMINATION PREVENTING METHOD AND CLEANING METHOD OF SILICON SUBSTRATE SURFACE AND DEVICE THEREOF |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH03112134(A) |
申请公布日期 |
1991.05.13 |
| 申请号 |
JP19890249100 |
申请日期 |
1989.09.27 |
| 申请人 |
MITSUBISHI HEAVY IND LTD |
发明人 |
ISHIDA HIROYUKI;SAKAMOTO HITOSHI |
| 分类号 |
H01L21/302;G03F7/20;H01L21/304;H01L21/3065 |
主分类号 |
H01L21/302 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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