| 发明名称 |
METHOD OF FORMING A FINE PATTERN ON A SEMICONDUCTOR HAVING A STEP THEREIN |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
GB9105973(D0) |
申请公布日期 |
1991.05.08 |
| 申请号 |
GB19910005973 |
申请日期 |
1991.03.21 |
| 申请人 |
SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD |
发明人 |
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| 分类号 |
G03F7/20;H01L21/027;H01L21/302;H01L21/3065 |
主分类号 |
G03F7/20 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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