摘要 |
Strahlungsempfindliches Gemisch, im wesentlichen bestehend aus (a) einem in Wasser unlöslichen, in wäßrig-alkalischen Lösungen löslichen Bindemittel oder Bindemittelgemisch, und (b) einer bei Bestrahlung eine starke Säure bildenden Verbindung, wobei als Bindemittel (a) ein phenolisches Harz eingesetzt wird, dessen phenolische Hydroxylgruppen zu 5 bis 50 % dieser Gruppen durch β-halogenierte Alkylcarbonatgruppen ersetzt sind. Dieses strahlungsempfindliche Gemisch eignet sich zur Herstellung von Reliefstrukturen.
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