发明名称 Light-sensitive composition, and process for the formation of relief pattern.
摘要 Strahlungsempfindliches Gemisch, im wesentlichen bestehend aus (a) einem in Wasser unlöslichen, in wäßrig-alkalischen Lösungen löslichen Bindemittel oder Bindemittelgemisch, und (b) einer bei Bestrahlung eine starke Säure bildenden Verbindung, wobei als Bindemittel (a) ein phenolisches Harz eingesetzt wird, dessen phenolische Hydroxylgruppen zu 5 bis 50 % dieser Gruppen durch β-halogenierte Alkylcarbonatgruppen ersetzt sind. Dieses strahlungsempfindliche Gemisch eignet sich zur Herstellung von Reliefstrukturen.
申请公布号 EP0424737(A2) 申请公布日期 1991.05.02
申请号 EP19900119474 申请日期 1990.10.11
申请人 BASF AKTIENGESELLSCHAFT 发明人 NGUYEN, KIM SON, DR.
分类号 G03F7/039 主分类号 G03F7/039
代理机构 代理人
主权项
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