| 主权项 |
1﹒一种使用水溶性光阻材料之印刷电路板制造工业,半导体制造与印刷工业所释放出之合光阻材料废液之处理方法,其包含:(a)令以一含硷成份之处理液处理光阻材料后,将所得之废液行超滤作用,其中超滤作用系藉使用5,000-100,000切割分子量范围或膜之平均孔径为0﹒002-0﹒05微米之范围的超滤膜,该膜材料由如二氧化锆之金属氧化物,聚材料,聚酯亚胺材料,醯基硝醯材料或气化乙烯材料所制成,而在3-20公斤/平方公分之操作压力范围与20-70℃液体温度下进行俾由该处理系统获得之废水溶液对原废水溶液之密度比率小1/10,(b)回收每一通过超派膜后之渗透液至一处理液以使此在超滤作用被净化的废液重新循环使用,(c)在处理受质上之光阻材料层之前,加入与在处理过程中被消耗或分解之相同的一硷成份至将行再循环之渗透液一直到渗透液之PH値达到原处理液之pH値,若以显现方式移除光阻材料,则于超滤作用后加入渗透滤液内之硷成份为NaOH,若以洗卸方式移除光阻材料,则于超滤作用后加入之Y成份为NaOH或KoH。2﹒如申请专利范围第1项所述之方法,其中,该处理液包含使用一水溶性光阻材料之显像制程中所释出的一废液及洗卸光阻材料之洗卸制程中所释出的废液。3﹒一种由使用水溶性光阻材料之印刷电路板制造工业,半导体制造与印刷工业所释放出之含光阻材料废液之处理方法,其包含(a)便在光阻材料处理制程(其包含一米阻显像制程及一光阻洗卸制程)中所释放出的废液行一种起滤作用,以浓缩在废液中的光阻材料,其中该浓缩液为自申请专利范围第1项之方法中,经超滤再循环所得之浓缩液,(b)将含最终光阻材料之浓缩的废液曝晒于电磁辐射以聚合或热化溶于溶液中之光阻材料,藉以产生含有聚合物质与水之固化物质,其中,该电磁辐射为含200-400nm波长范围之电磁波,和/或进一步地包括,(c)燃烧最终之固化物质以产生燃烧热以蒸发废液中之水份,藉此可加速溶于溶液中之废光阻材料之聚合作用。 |
