| 主权项 |
1﹒一种光阻组合物,此组合物系包括:一可溶于硷性水溶液中的树脂,此树脂具有2000到15000之分子量且系择自下列之物质,一脂环烃与马来酸酐的共聚物,一脂环烃与马来醯亚胺的共聚物,一藉脂环与马来酸酐的共聚物之马来酸酐内的酸酐环水解所得到的树脂,一藉由具有一羟基的化合物使该脂环烃与马来酸酐的共聚物之马来酸酐内的酸酐环开环所得到的树脂,一藉由具有一胺基的化合物使该脂环烃与马来酸酐的共聚物之马来酸酐内的酸酐环开环所得到的树脂,以及一藉由具有一胺基的化合物使该脂环烃与马来酸酐的共聚物之马来酸酐内的酸酐环开环,按着藉由一醯亚胺基环封闭该共聚物之开环作用所形成之马来醯胺酸单元的一部份或全部所得到树脂;和一定量之光敏化剂以在所指之树脂曝晒于活化辐射时促进或阻止该树脂溶解于硷性水溶液中,因而在继之的硷性水溶液之显像过程中造成经曝晒部份和未经曝晒部份间溶解度实质上不同而形成一正像和负像,其中该脂环烃包括下列通式(1)到(8)之化合物:其中R1至R4系一氢原子其中R5至R8系一氢原子,R9至R10各相同或不同且系一氢原子或C1一c3烷基,其中R11至R17各示氢原子其中R18至R21各示氢原子其中R22至R25各系一氢原子,其中R26至R37系一氢原子其中R38至R44系一氢原子其中R45至R52系一氢原子,其中该光敏化剂之量以每100重量份之可溶于硷性水溶液的树脂计,为10到40重量份。2﹒如申请专利范围第1项之光阻组合物,其中该具有一羟基的化合物系下式(9)的化合物:其中R53系一C1—C6—烷基,—C5—C8环烷基或式(10),(11)(12)的基团:其中R54至R55各为系—C1—C3伸烷基,R56系一氢原子或C1—C3烷基。3﹒如申请专利范围第1项之光阻组合物,其中所指之具有一胺基的化合物系下式(13)的化合物:其中R58系一C1—C6—烷基,—C5—C8环烷基或式(14),(15)或(16)的一基团40﹒其中R59至R60系各为—C1—C5伸烷基,R61系一氢原子,R62系一羟基。4﹒如申请专利范围第1项之光阻组合物,其中所指之光敏枚化剂系辊正型光敏光剂。5﹒如申请专利范围第1项之光阻组合物,其中所指之光敏化剂系双一叠氮化物负型光敏光剂。6﹒一种形成一绝缘图案的方法,此方法包括在一基板上形成一层如申请专利范围第1项之光阻组合物,以紫外线或激光射线照射该层以形成一潜像(latentimage),并显像该潜像。 |
