发明名称 射流速度测量装置
摘要 一射流速度测量装量,可测量在一次电子信号和二次电子信号之间的时延,该一次电子信号是由第一光敏器件因第一光束被射流的部分表面(S)反射而产生的,而该二次电子信号是由第二光敏器件因第二光束被在下游的基本上相同部分的射流表面所反射而产生的。本装置包括有一个与射流表面的平面(P2)平行设置的外壳。第一和第二光纤束把从光源来的光发射到射流的表面并反射到对应的光敏器件。
申请公布号 CN1012533B 申请公布日期 1991.05.01
申请号 CN87100472.0 申请日期 1987.01.23
申请人 美商贝洛特公司 发明人 罗杰特·查尔斯·布伦德米尔
分类号 G01P5/18 主分类号 G01P5/18
代理机构 中国专利代理有限公司 代理人 吴增勇;吴秉芬
主权项 1.一种用于测量液体流速的射流速度测量装置,该装置测量一次电子信号和二次电子信号之间的时延,该一次电子信号是由第一光敏器件由于来自光源的第一光束被射流的部分表面所反射的结果而产生的,而二次电子信号是由第二光敏器件由于来自光源的第二光束被射流的基本相同的部分表面在下游反射的结果而产生的,其特征在于:该装置包括以下部件的组合:—一个被设置于邻接于流体射流的外壳,该外壳拥有一个首面,—第一分路光纤束,它被固定在与所述首面邻接的所述外壳处,以便将从光源来的第一光束发射到射流的部分表面并反射到第一光敏器件,—第二分路光纤束,它被固定在所述外壳并终接到靠近所述首面而且在相对于所述第一光纤束的所述终端的下游处,当射流的这部分表面已经在下游流离第一光束时,所述第二光纤束就将来自光源的第二光束发射到基本上是射流的相同部分的表面上,所述第二光纤束将沿所述第二光纤束反射回来的第二光束射向第二光敏器件,以及—浆渣一偏转装置,它被设置在所述外壳的所述首面附近,以便使浆渣偏离上述外壳的所述首面,从而防止浆渣堆积在所述首面上,以免阻碍第一和第二光束射向和射离射流的射程。
地址 美国威斯康星州