冷等离子体表面处理设备及其处理工艺

摘要

本发明涉及一种利用冷等离子体对材料表面进行处理的设备及其处理工艺。其主要特点是采用直流辉光放电的正柱区产生冷等离子体，并利用它对材料表面进行处理。直流辉光放电的阳极和阴极设在真空室的两端，真空室两端还设有支撑板，支撑板之间装有若干根转轴和一根主动传动轴。主动传动轴带动被处理材料通过放电区。本发明具有结构和工艺简单、易于大规模工业化生产、无电磁污染和处理效果好等优点。

主权项

1、一种冷等离子体表面处理工艺，其特征是采用直流辉光放电的正柱区产生冷等离子体，并利用它对材料表面进行处理，被处理材料的层面与电场方向平行。