排气的净化方法

摘要

一种产业排气的净化方法，其特征为在以接触处理的方式净化含有触媒毒的排气时，使该排气预先通过高活性化氧化铝填充层以除去触媒毒，该高活性化氧化铝系于氧化铝层载持有选自白金、钯、银等贵金属以及铁、锰、铬、铜、镍、钴等重金属氧化物的至少一种触媒成份者。其中触媒成份的载持量以氧化铝的重量为准系0.05～２重量百分数；前处理系于130～500℃温度，常压下及空间速度(SV)为10000~50000 hr-1之条件下予以实施。一种产业排气的净化方法，系以接触处理的方式净化含有触媒毒的排气的方法，其特征为将除去触媒毒所用的高活性化氧化铝填充层与除去排气中的有害物质所用的氧化触媒填充层分开设置，该高活性化氧化铝系于氧化铝层载持有选自白金、钯、银等贵金属以及铁、锰、铬、铜、镍、钴等重金属氧化物的至少一种触媒成份者。其中触媒成份的载持量以氧化铝的重量为准系0.05～２重量百分数；前处理系于130～500℃温度，常压下及空间速度(SV)为10000~50000 hr-1之条件下予以实施。

主权项

1﹒一种产业排气的净化方法,其特征为在以接触处理的方式净化含有触媒毒的排气时,使该排气预先通过高活性化氧化铝填充层以除去触媒毒,该高活性化氧化铝系于氧化铝层载持有选自白金、钯、银贵金属以及铁、锰、铬、铜、镍、钴重金属氧化物的至少一种触媒成份者,其中触媒成份的载持量以氧化铝的重量为准系0﹒05-2重量百分数;前处理系于130-500℃温度,常压下及空间速度(sv)为10000-50000hr^─╮@陉妤囓韝U予以实施。2﹒如申请专利范围第1显所述之产业排气的净化方法,其中使通过高活性化氧化铝填充层而已除去触媒毒的排气,接着通过氧化触媒填充层以除去有害物质。3﹒一种产业排气的净化方法,系以接触处理的方式净化含有触媒毒的排气的方法,其特征为将除去触媒毒所用的高活性化氧化铝填充层与除去排气中的有害物质所用的氧化触媒填充层分开着设置,该高活性化氧化铝系于氧化铝层载持有选自白金、钯、银贵金属以及铁、锰、铬、铜、镍、钴重金属氧化物的至少一种触媒成份者,其中触媒成份的载持量以氧化铝的重量为准系0﹒05-2重量百分数;前处理系于130-500℃温度,常压下及空间速度(sv)为10000─50000hr^─1之条件下丑@岩H实施。4﹒如申请专利范围第3项所述之产业排气的净化方法,其中高活性化氧化铝填充层与氧化触媒填充层之间的空隙为10-200毫米。