| 主权项 |
1﹒一种制备用于转换液体至另一表面之液体转换物件之方法,包括步骤为:(a)以至少一层择自耐火氧化物及金属碳化物之涂布物质来涂布物件;(b)在涂布表面上模制一种对包含选定能阶之幅射脉冲之雷射束为透性之可移走遮蔽物质,(c)导引该每一幅射脉冲为10至300微秒间维持0﹒0001至0﹒4焦耳之幅射均匀脉冲之雷射束至物件之表面上,以至许多幅射脉冲在不被遮蔽物质所覆盖之涂布表面之区域中产生用以接受液体之均匀蓄井模式;及(d)从涂布物件上移起遮蔽物质。2﹒根据申请专利范围第1项之方法,其中在步骤(a)后添加下列步骤:(a')处理涂布表面以获得少于20微寸及Ra才粗糙哄@蛂C3﹒根据申请专利范围第1项之方法,其中在步骤(a)后添加下列步骤:(a')以密封剂密封涂布表面。4﹒根据申请专利范围第1项之方法,其中步骤(b)中之该可移走遮蔽物质包含一具有对选定能阶之幅射束主要地可透性之第一层,及配置在第一层上对选定能阶之幅射束为不透性之不连续物之第二层的双层薄膜,因而可在第一层中产生由不被第二层所覆盖之第一层之区域来决定之模式。5﹒根据申请专利范围第1项之方法,其中该可移走遮蔽物质量沉积在涂布物质之表面上。6﹒根据申请专利范围第3项之方法,其中在步骤(a')后添加下式@C步骤:(a'')处理涂布表面以获得少于20微寸Ra才粗糙哄@蛂C7﹒根据申请专利范围第1,2,4,5或6项之方法,其中在步骤(d)后添加下列步骤:(e)使雷射处理后物件之表面平滑至约6微寸Ra或更少之粗糙度。8﹒根据申请专利范围第4项之方法,其中步骤(b)中之第一层对0﹒0001至0﹒4焦耳之幅射束为主要地可透性而第二层对该幅射束为不透性。9﹒根据申请专利范围第4项之方法,其中步骤(b)中之第一层为聚酯膜。10﹒根据申请专利范围第4项之方法,其中步骤(b)中之第二层系选自铜、镍及金。11﹒根据申请专利范围第4项之方法,其中步骤(b)中之第一层为聚酯膜而第二层为铜。12﹒根据申请专利范围第5项之方法,其中步骤(b)中之可移走遮蔽物质系选自酮、镍及金。13﹒根据申请专利范围第12项之方法,其中步骤(b)中之可移走遮蔽物质为铜。14﹒根据申请专利范围第1,2,4,5或6项之方法,其中液体转换物件是凹版滚筒。15﹒根据申请专利范围第14项之方法,其中凹版滚筒包含选自铝及钢之物质所制成之基质,且其中该滚筒系经选自氧化铬、氧化铝、氧化矽及其混合物之物质所涂布。16﹒根据申请专利范围第15项之方法,其中基质是以氧化铬所涂布之钢。17﹒根据申请专利范围第1,2,4,5或6项之方法,其中步骤(c)中之蓄井具有从10微米至300微米之直径及从2微米至250微米之深度。 |
