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发明名称
TROCKENES AETZVERFAHREN FUER EINE SILIZIUMNITRIDSCHICHT.
摘要
申请公布号
DE3582146(D1)
申请公布日期
1991.04.18
申请号
DE19853582146
申请日期
1985.12.26
申请人
FUJITSU LTD., KAWASAKI, KANAGAWA, JP
发明人
SHIN, TESHIKI, KAWASAKI-SHI KANAGAWA 211, JP
分类号
H01L21/302;H01L21/145;H01L21/3065;H01L21/311;H01L21/32;H01L21/762;(IPC1-7):H01L21/31
主分类号
H01L21/302
代理机构
代理人
主权项
地址
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