发明名称 PROCEDE POUR REALISER LE DEPOT DIRECT OU INDIRECT D'UNE COUCHE TECHNIQUE DE CHROME DUR, TRES RESISTANTE A LA CORROSION.
摘要 <P>Selon ce procédé, pour déposer une couche de chrome dur, on travaille avec un courant continu pulsé possédant une fréquence d'impulsions comprise entre une valeur critique inférieure et une valeur de fréquence critique supérieur (F0 ) déterminées, la fréquence critique supérieure (F0 ) étant déterminée pour un rendement de courant optimisé, et ce de sorte que pour des fréquences augmentant jusqu'à atteindre cette fréquence (F0 ), on passe d'un dépôt brillant sans fissures à un dépôt brillant avec de plus en plus de fissures et, dans la zone comprise entre la fréquence critique inférieure et cette fréquence critique supérieure, on choisit la durée d'application du courant continu pulsé pour obtenir un dépôt brillant pratiquement sans fissures. <BR/> Application notamment au dépôt d'une couche de chrome dur sur des pièces usinées en acier.</P>
申请公布号 FR2652825(A1) 申请公布日期 1991.04.12
申请号 FR19900012326 申请日期 1990.10.05
申请人 LPW CHEMIE GMBH 发明人 KOHL MARTIN;CLAUBERG WOLFGANG;PIETZAK ELISABETH EPOUSE BIELING
分类号 C25D3/04;C25D3/10;C25D5/14;C25D5/18;C25D5/26 主分类号 C25D3/04
代理机构 代理人
主权项
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